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芯片真空金錫共晶焊接中的氣壓控制

2023-04-06 13:55:24 行業(yè)新聞 3500

芯片真空金錫共晶焊接中的氣壓控制

轉(zhuǎn)自:半導(dǎo)體封裝工程師之家,原創(chuàng):海綿寶寶的耳朵,作者:洪火鋒

 

摘要:

 真空共晶焊接是用真空共晶爐實(shí)現(xiàn)芯片與載體互連的一種重要的焊接工藝。對(duì)于需要共晶的芯片,其與載體間共晶焊接的空洞率,會(huì)直接影響到芯片工作時(shí)的散熱及其輸出功率。重點(diǎn)針對(duì)無(wú)工裝施加壓力條件下真空共晶爐內(nèi)抽真空、加壓、泄壓等工藝展開(kāi)試驗(yàn)研究,分析不同的爐內(nèi)氣壓壓強(qiáng)與空洞率之間的關(guān)系。試驗(yàn)結(jié)果表明,在焊料熔化形成空洞時(shí)增加氣壓、在焊料凝固后排氣降壓,對(duì)降低焊接空洞率有明顯改善。

 

引言

 隨著通信行業(yè)的快速發(fā)展,各種微波系統(tǒng)、模塊的工作頻率越來(lái)越高,微波多芯片組件(尤其毫米波TR組件)憑借其高密度、高性能、高可靠性、重量輕、體積小等特點(diǎn)被廣泛地應(yīng)用于航空航天、軍用通信等領(lǐng)域。微波多芯片組件的實(shí)現(xiàn)主要建立在微組裝工藝技術(shù)的基礎(chǔ)上,共晶是微組裝技術(shù)中實(shí)現(xiàn)芯片與載體互連的一種重要的焊接工藝,具有良好導(dǎo)電、導(dǎo)熱的特點(diǎn),充分保障了芯片的接地、散熱特性,對(duì)芯片的電性能的實(shí)現(xiàn)以及穩(wěn)定工作有著至關(guān)重要的作用,被廣泛應(yīng)用于毫米波高頻段、大功率微波器件中。

 

真空共晶焊接工藝技術(shù)中影響焊接質(zhì)量的主要參數(shù)包括焊接溫度、焊接時(shí)間、焊接件上壓力、焊接氛圍等因素,目前傳統(tǒng)的芯片真空共晶焊接工藝是通過(guò)在芯片上設(shè)計(jì)工裝施加壓力來(lái)實(shí)現(xiàn)的,并且其對(duì)降低共晶焊接空洞率有著非常突出的作用,然而對(duì)于一些表面對(duì)壓力敏感的芯片(如存在多處空氣橋而無(wú)施壓空間的砷化鎵芯片等)而言,焊接過(guò)程中在不通過(guò)工裝施加壓力的情況下對(duì)芯片共晶焊接的空洞率進(jìn)行優(yōu)化控制至關(guān)重要。

 

試驗(yàn)方法與過(guò)程

 本文采用薄膜陶瓷基片替代芯片進(jìn)行模擬試驗(yàn),針對(duì)在真空共晶焊接過(guò)程中,在不同升溫時(shí)段對(duì)真空共晶爐進(jìn)行抽真空、充氮?dú)?,通過(guò)樣件的檢測(cè)分析不同的爐內(nèi)氣壓對(duì)共晶焊接的影響,并在試驗(yàn)的基礎(chǔ)上進(jìn)行參數(shù)優(yōu)化。參數(shù)確認(rèn)后,通過(guò)實(shí)際芯片的空洞率的測(cè)試來(lái)驗(yàn)證試驗(yàn)情況,獲取低空洞率的芯片焊接。

 

2.1 試驗(yàn)材料及準(zhǔn)備

 本文所用的試驗(yàn)樣件材料的外形示意圖如圖1所示,具體材料種類(lèi)及特性見(jiàn)表1。

 

2.2 試驗(yàn)方法及規(guī)劃

 真空共晶焊接是利用并有效控制真空共晶爐內(nèi)氣壓,大致通過(guò)預(yù)熱、抽真空、升溫、降溫、充氣、排氣等過(guò)程,設(shè)置出相應(yīng)的溫度、氣壓與時(shí)間的控制曲線(xiàn),實(shí)現(xiàn)共晶的過(guò)程。 

首先對(duì)載體、薄膜陶瓷基片進(jìn)行物理清洗,再利用等離子清洗機(jī)清洗兩者待焊接面(射頻功率:500W,清洗時(shí)間:5分鐘);然后將預(yù)成型焊料片、薄膜陶瓷基片、載體依次放入共晶爐內(nèi)的石墨載板上;運(yùn)行設(shè)置的設(shè)備程序完成共晶焊接;將焊接完成的樣件經(jīng)過(guò)顯微鏡目檢,觀察薄膜陶瓷基片四周溢出的金錫焊料是否熔化充分、連續(xù),色澤光亮;最后經(jīng)X射線(xiàn)設(shè)備檢測(cè)焊接空洞率(內(nèi)控空洞要求:空洞率小于15%且無(wú)貫穿性空洞)。 

對(duì)任何一種焊接件而言,其外形、重量、材料、熱容等因素都不同,首先針對(duì)試驗(yàn)樣件摸索出常壓下共晶爐的溫度曲線(xiàn),以此開(kāi)展后續(xù)試驗(yàn)。在金錫焊料未發(fā)生熔化時(shí),真空共晶爐內(nèi)氣氛環(huán)境(無(wú)論真空或者是高氣體壓力)會(huì)對(duì)溫度分布產(chǎn)生影響,但此時(shí)尚未形成空洞;而在焊料熔融后,真空共晶爐內(nèi)氣氛環(huán)境開(kāi)始對(duì)空洞率產(chǎn)生影響。依次開(kāi)展全過(guò)程真空環(huán)境的共晶焊接,熔融前加壓并在熔融中真空的共晶焊接,熔融前加壓并在熔融中排氣降壓的共晶焊接,以及熔融中加壓的共晶焊接。

 

2.3 試驗(yàn)過(guò)程

 2.3.1 常壓下溫度曲線(xiàn)的確定

經(jīng)多次保持爐內(nèi)氣壓為常壓(標(biāo)準(zhǔn)大氣壓)的共晶焊接試驗(yàn),確定樣件常壓下溫度-時(shí)間(溫時(shí))曲線(xiàn),如圖2所示。在該溫時(shí)曲線(xiàn)下,薄膜陶瓷基片下的金錫焊料熔化充分并且色澤光亮,同時(shí)焊縫處焊料流淌均勻、連續(xù)。 

考慮到真空環(huán)境下熱傳導(dǎo)會(huì)降低以及注入氮?dú)鈺r(shí)會(huì)吸走一部分熱量,后續(xù)試驗(yàn)設(shè)定的最高溫度及焊接保溫時(shí)間會(huì)進(jìn)行相應(yīng)的小幅度調(diào)整。

 

2.3.2 全過(guò)程真空環(huán)境的共晶焊接

 在保持溫時(shí)曲線(xiàn)不變,全過(guò)程保持真空且焊片與載體貼合緊密,無(wú)明顯縫隙。其效果見(jiàn)圖3所示。金錫焊料熔化不充分,表面全部都是“褶皺”,不夠“圓潤(rùn)”,且無(wú)光澤,屬于明顯欠焊,導(dǎo)致欠焊的主要原因是在真空環(huán)境下,熱量傳導(dǎo)的媒介減少,熱傳導(dǎo)效率降低,溫度相對(duì)較低導(dǎo)致。 

2.3.3 熔融前加壓并在熔融中真空的共晶焊接

 鑒于全過(guò)程真空環(huán)境下焊接所得結(jié)果,為了增加熱傳導(dǎo),在焊料熔融前充氮?dú)?,如圖4中共晶焊接程序曲線(xiàn)所示,在熔融前加壓并在熔融中保持真空,該組試驗(yàn)件金錫焊料均熔化充分,色澤光亮,圓潤(rùn),但是基片四周的焊料熔化不夠連續(xù),出現(xiàn)局部斷點(diǎn),而且在X射線(xiàn)設(shè)備檢測(cè)下均有少許空洞,其檢測(cè)的空洞率值約為10.2%

2.3.4 熔融前加壓并在熔融中排氣降壓的共晶焊接

 為了與熔融前加壓熔融中保持真空的焊接做比對(duì),嘗試在熔融前加壓并在熔融中進(jìn)行排氣降壓進(jìn)行試驗(yàn),共晶焊接程序曲線(xiàn)如圖5所示,該組試驗(yàn)件金錫焊料均熔化充分,色澤光亮,在X射線(xiàn)設(shè)備檢測(cè)下空洞非常明顯,其檢測(cè)的空洞率值約為34.5%,呈惡化趨勢(shì),但是基片四周的焊料熔化連續(xù)。

比對(duì)不難發(fā)現(xiàn):在保持氮?dú)夥諊碌墓簿Ш附雍噶稀傲魈市浴备泳鶆?,基片四周的焊料熔化更加連續(xù)。

 

2.3.5熔融中加壓的共晶焊接

熔融前加壓并在熔融中進(jìn)行排氣降壓的試驗(yàn)結(jié)果表明,共晶焊接需要在保持氮?dú)饧訅旱姆諊?,嘗試在熔融過(guò)程中加壓并在焊料凝固前排氣降壓,如圖6中所示共晶焊接程序曲線(xiàn)進(jìn)行試驗(yàn),該組試驗(yàn)件金錫焊料均熔化充分,色澤光亮,焊料熔化連續(xù),但在X射線(xiàn)設(shè)備檢測(cè)下空洞非常明顯,其檢測(cè)的空洞率值約為26.7%。 

鑒于熔融中加壓并在焊料凝固前排氣降壓的試驗(yàn)結(jié)果,嘗試將熔化過(guò)程中加壓的時(shí)間延長(zhǎng),選擇在熔融中(焊料已熔化)進(jìn)行加壓,焊料凝固后排氣降壓進(jìn)行試驗(yàn),如圖7、8中所示共晶焊接程序曲線(xiàn)進(jìn)行試驗(yàn)。 

7是加壓壓強(qiáng)為0.31MPa的情況,圖8為加壓壓強(qiáng)為0.38MPa的情況,在溫度-時(shí)間曲線(xiàn)一致的情況下,該兩組試驗(yàn)件的金錫焊料均熔化充分、連續(xù),色澤光亮,外觀一致性較好,在X射線(xiàn)設(shè)備的檢測(cè)下,兩組試驗(yàn)件的空洞率基本滿(mǎn)足要求,加壓壓強(qiáng)為0.31MPa的試驗(yàn)件的檢測(cè)空洞率值約為14.2%,加壓壓強(qiáng)為0.38MPa的試驗(yàn)件的檢測(cè)空洞率值約為5.4%,相比而言,加壓0.38MPa情況下,大的空洞數(shù)量較少,效果明顯優(yōu)于加壓0.31MPa的情況。 

 

試驗(yàn)結(jié)果與分析

 

3.1 試驗(yàn)結(jié)果統(tǒng)計(jì)

將上述試驗(yàn)進(jìn)行統(tǒng)計(jì),具體見(jiàn)如表2所示。

 

3.2 試驗(yàn)分析

 全過(guò)程保持真空的環(huán)境下進(jìn)行共晶焊接,因?yàn)閭鬟f媒介的缺失,熱對(duì)流作用下降,熱量傳遞效率低,導(dǎo)致金錫焊料熔化不充分、欠焊。 

通過(guò)以上多組試驗(yàn)的檢測(cè)結(jié)果,我們不難發(fā)現(xiàn)真空共晶焊接最關(guān)鍵的環(huán)節(jié)是在焊料達(dá)到熔點(diǎn)后以及降溫凝固這個(gè)階段,爐內(nèi)氮?dú)鈿鈮簩?duì)空洞率的影響實(shí)際就是發(fā)生在這個(gè)環(huán)節(jié)。 

在不利用工裝施加壓力的情況下,在焊料熔化過(guò)程中進(jìn)行真空處理不會(huì)降低空洞率,反而會(huì)提高空洞率;在焊料熔化并形成空洞后加壓并在焊料凝固后排氣降壓,會(huì)對(duì)降低空洞率有明顯改善,如在焊料凝固前排氣降壓,則與在焊料熔化過(guò)程中進(jìn)行真空處理相似,空洞率會(huì)惡化??斩葱纬傻母驹蚴菤怏w的殘留以及引入,可以理解成金錫焊料熔化時(shí)將殘留氣體包裹在一個(gè)密閉的液態(tài)小空間內(nèi),想要降低空洞率,其一是將空洞內(nèi)的氣體溢出,共晶摩擦就是利用運(yùn)動(dòng)幫助氣體排出,同時(shí)工裝加壓也是幫助氣體溢出的重要手段,其二是將空洞的體積縮小。 

 

在金錫焊料熔化過(guò)程中,焊料達(dá)到熔點(diǎn)時(shí)的壓強(qiáng)為P1,凝固后的壓強(qiáng)為P2,當(dāng)氣壓值減小時(shí),空洞體積變大,與圖5、圖6所對(duì)應(yīng)的試驗(yàn)結(jié)果相符;當(dāng)氣壓值增大時(shí),空洞體積變小,與圖78所對(duì)應(yīng)的試驗(yàn)結(jié)果相符??紤]到共晶焊接中影響空洞率的因素較多,上述推論可以反映空洞率發(fā)生變化的趨勢(shì)。

 

應(yīng)用實(shí)例

基于上述試驗(yàn)研究及分析的結(jié)果,在試驗(yàn)2.3.5(加壓壓強(qiáng)0.38MPa)的基礎(chǔ)上優(yōu)化了溫度參數(shù),壓強(qiáng)曲線(xiàn)保持不變,完成了一種W波段發(fā)射模塊中核心芯片(驅(qū)放、功放、混頻、倍頻等)的共晶焊接,模塊實(shí)物如圖9所示。其中共晶的混頻器、功放芯片四周焊料熔化充分,圓潤(rùn),色澤光亮,檢測(cè)的焊透率均超過(guò)96%,如圖10所示。

結(jié)束語(yǔ)

 不使用工裝對(duì)芯片施加壓力的真空共晶焊接,在焊料熔化形成空洞后增加氮?dú)鈮簭?qiáng)并在凝固后排氣降壓,會(huì)對(duì)降低空洞率有明顯改善,并在此基礎(chǔ)上形成了一種較為實(shí)用的應(yīng)用于采用金錫焊片無(wú)外加重力或摩擦力的毫米波芯片共晶焊接的低空洞率焊接工藝方法。

 

 

 

免責(zé)申明:本文內(nèi)容轉(zhuǎn)自:半導(dǎo)體封裝工程師之家,原創(chuàng):海綿寶寶的耳朵,作者:洪火鋒。文字、素材、圖片版權(quán)等內(nèi)容屬于原作者,本站轉(zhuǎn)載內(nèi)容僅供大家分享學(xué)習(xí)。如果侵害了原著作人的合法權(quán)益,請(qǐng)及時(shí)與我們聯(lián)系,我們會(huì)安排刪除相關(guān)內(nèi)容。本文內(nèi)容為原作者觀點(diǎn),并不代表我們贊同其觀點(diǎn)和(或)對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé)。

 

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